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JBX-6300FS的電子光學(xué)系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動調(diào)整直徑為(計算值)2.1nm的電子束,簡便地描畫出線寬在8nm以下(實(shí)際可達(dá)5nm)的圖形。此...
JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng),兼具高水平的產(chǎn)出量和定位精度,能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版,適合納米壓印、光子器件、通信...
JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精度和高...
JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精度和高可...
高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng),通過的設(shè)計優(yōu)化,實(shí)現(xiàn)更簡便的操作,更快的刻寫速度,更小的占地面積和安裝空間,并且更加綠色節(jié)能。
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