JBX-6300FS的電子光學(xué)系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動調(diào)整直徑為（計算值）2.1nm的電子束，簡便地描畫出線寬在8nm以下（實(shí)際可達(dá)5nm）的圖形。此...

JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng)，兼具高水平的產(chǎn)出量和定位精度，能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信...

JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精度和高...

JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精度和高可...

高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過的設(shè)計優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。